고순도 가스 스테인리스 스틸 공압 다이어프램 밸브 1/4 인치 고압
제품 설명
공압 다이어프램 밸브의 지정
| 기술 데이터 | ||
| 포트 크기 | 1/4 ″ | |
| 방전 계수 (CV) | 0.2 | |
| 최대 작업 압력 | 수동 | 310 바 (4500 psig) |
| 영적인 | 206 바 (3000 psig) | |
| 공압 액추에이터의 작동 압력 | 4.2 ~ 6.2 바 (60 ~ 90 psig) | |
| 작업 온도 | PCTFE ： -23 ~ 65 ℃ ℃ + (-10 ~ 150 ℉) | |
| 누출 속도 (헬륨) | 내부에 | ≤1 × 10-9 mbar l/s |
| 외부 | ≤1 × 10-9 mbar l/s | |
| 흐름 데이터 | ||
| 공기 @ 21 （− (70 ℉} 물 @ 16 ℃ ℃ (60 ℉) | ||
| 최대 공기 압력 막대 (PSIG)의 압력 강하 | 에어 (Lmin) | 물 (L/분) |
| 0.68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
청소 과정
▶ 표준 (wk-ba)
모든 용접 조인트는 회사의 표준 청소 및 포장 사양에 따라 청소해야합니다.
주문할 때는 접미사를 추가 할 필요가 없습니다
▶ 산소 청소 (WK-O2)
산소 환경을위한 제품 세정 및 포장 사양을 제공 할 수 있습니다. 이 제품은
ASTMG93C 청결의 요구 사항. 주문시 주문 번호 다음에 O2를 추가하십시오.
▶ 울트라 고순도 (WK-EP)
제어 된 표면 마감, Elecretopolishing RA0 13 μm를 제공 할 수 있습니다. 탈 이온
수중 초음파 청소. 주문하려면 주문 번호 후에 EP를 추가하십시오
모든 용접 조인트는 회사의 표준 청소 및 포장 사양에 따라 청소해야합니다.
주문할 때는 접미사를 추가 할 필요가 없습니다
▶ 산소 청소 (WK-O2)
산소 환경을위한 제품 세정 및 포장 사양을 제공 할 수 있습니다. 이 제품은
ASTMG93C 청결의 요구 사항. 주문시 주문 번호 다음에 O2를 추가하십시오.
▶ 울트라 고순도 (WK-EP)
제어 된 표면 마감, Elecretopolishing RA0 13 μm를 제공 할 수 있습니다. 탈 이온
수중 초음파 청소. 주문하려면 주문 번호 후에 EP를 추가하십시오
 | 주요 구조 재료 | ||
| 일련 번호 | 요소 | 재료의 질감 | |
| 1 | 핸들 | 알류미늄 | |
| 2 | 액추에이터 | 알류미늄 | |
| 3 | 밸브 스템 | 304 SS | |
| 4 | 보닛 | S17400 | |
| 5 | 보닛 너트 | 316 SS | |
| 6 | 단추 | 놋쇠 | |
| 7 | 다이어프램 (5) | 니켈 코발트 합금 | |
| 8 | 밸브 시트 | pctfe | |
| 9 | 밸브 본체 | 316L SS | |
치수 및 주문 정보
바로 유형을 통해
크기
치수는 인치 (mm)는 참조 용입니다
크기
치수는 인치 (mm)는 참조 용입니다
| 기본 주문 번호 | 포트 유형 및 크기 | sizein. (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4 ″ 튜브 -W | 0.44 (11.2) | 0.30 (7.6) | 1.12 (28.6) | 1.81 (45.9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4 ″ FA-MCR | 0.44 (11.2) | 0.86 (21.8) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4 ″ MA-MCR1/4 | 0.44 (11.2) | 0.58 (14.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0.44 (11.2) | 0.70 (17.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
관련된 산업
TFT-LCD
TFT-LCD 제조 공정의 CVD 증착 공정에 사용 된 공정 특수 가스는 실란 (S1H4), 암모니아 (NH3), 포스 핀 (PH3), 아산화 질소 (N2O), NF3 등입니다. 또한 고순도 수소 및 고순도 질산염 및 기타 벌크 가스도 공정에 관여합니다. 아르곤은 스퍼터링 과정에 사용되며 스퍼터링 필름 형성 가스는 스퍼터링의 주요 재료입니다. 첫째, 필름 형성 가스는 대상과 반응 할 수 없으며 가장 적합한 가스는 불활성 가스입니다. 전자 특수 가스는 대부분 가연성, 폭발성 및 독성이 많으므로 가스 회로 및 기술에 대한 요구 사항은 매우 높습니다. Wofei Technology는 초고 순도 특수 가스 전송 시스템의 설계 및 설치를 전문으로합니다.
특수 가스는 주로 LCD 산업에서 필름 형성 및 건식 에칭 공정에 사용됩니다. LCD에는 많은 종류의 LCD가 있으며, 그 중 TFT-LCD는 빠른 응답 시간, 높은 이미징 품질 및 점차 저렴한 비용으로 인해 가장 널리 사용되는 LCD 기술입니다. TFT-LCD 패널의 제조 공정은 전면 어레이, 중간 셀 및 후면 모듈 어셈블리의 세 단계로 나눌 수 있습니다. 전자 특수 가스는 주로 전방 어레이 프로세스의 필름 형성 및 건조 에칭 단계에 사용됩니다. 다수의 필름 형성 과정 후, SINX 비금속 필름 및 그리드, 소스, 드레인 및 ITO와 같은 금속 필름은 각각 기판에 퇴적된다.
Q1. 리드 타임은 어떻습니까?
A : 샘플은 3-5 일이 필요하며, 대량 생산 시간은 주문 수량에 1-2 주가 필요합니다.
Q2. MOQ 제한이 있습니까?
A : 낮은 MOQ 1 PIC.
Q3. 상품을 어떻게 배송하고 도착하는 데 얼마나 걸립니까?
A : 우리는 보통 DHL, UPS, FedEx 또는 TNT에 의해 배송됩니다. 보통 5-7 일이 걸립니다. 항공사 및 해상 배송도 선택 사항입니다.
Q4. 주문을 진행하는 방법?
A : 먼저 귀하의 요구 사항이나 신청서를 알려주십시오.
둘째, 우리는 귀하의 요구 사항이나 제안에 따라 인용합니다.
셋째, 고객은 샘플을 확인하고 공식 주문을위한 예금을 입금합니다.
넷째, 우리는 생산을 준비합니다.
여기에 메시지를 작성하여 우리에게 보내십시오
